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Détails des produits

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Nettoyage de gaufrette de silicium
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Nettoyage informatique de gaufrette de silicium d'industrie avec bon dégraissant la représentation

Nettoyage informatique de gaufrette de silicium d'industrie avec bon dégraissant la représentation

Nom De La Marque: JUNHE
Numéro De Modèle: 1020
MOQ: 500 kilogrammes
Prix: négociable
Capacité D'approvisionnement: 2 tonnes par jour
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Changzhou dans la porcelaine
Certification:
ISO9001 TS16949 SGS
Name:
Silicon Wafer Cleaning
Application:
IT Industry
PH:
12.0-14.0
Free alkalinity(piont):
≧13.5mg
name:
si wafer cleaning
model:
1020
Détails d'emballage:
1000kg/barrel
Capacité d'approvisionnement:
2 tonnes par jour
Mettre en évidence:

Détergent de tranche de silicium

,

Nettoyage chimique industriel

Description du produit

Nettoyage informatique de gaufrette de silicium d'industrie avec bon dégraissant la représentation

Le processus propre de RCA est basé sur une méthode de nettoyage développée à RCA Corporation pour enlever le résidu organique des gaufrettes de silicium. La solution de nettoyage se compose de 5 parts d'eau, d'hydroxyde d'ammonium de 1 partie 27% et de peroxyde d'hydrogène de 1 partie 30%. Elle enlève les contaminants organiques et laisse une couche mince de silicium oxydé sur la surface de la gaufrette.

Caractéristique de nettoyage de gaufrette de silicium

1) produits simples de groupe avec PPR parfait (rapport des prix de représentation)

2) soyez exempt du calcium, du magnésium, du métal, du cuivre, du plomb et du phosphore, et répondez à l'exigence de ROHS.

3)bonne représentation de dégraissage pour répondre à l'exigence du secteur informatique de grande précision.

Gaufrette de silicium nettoyant le paramètre technique

classification

projet

Nettoyage de gaufrette de silicium JH-1020 Examinez la norme
Aspect Sans couleur au liquide jaunâtre visualisation
Masse volumique 1.01-1.25 densimètre
pH 12.0-14.0 Instrument de pH
alcalinité libre (piont) ≧13.5mg CYFC

Instructions de nettoyage de gaufrette de silicium

1) mettez l'eau pure dans le réservoir de nettoyage jusqu'à de trois quarts, puis, ajoutez l'agent dans la concentration -5% de 3%, ajoutez l'eau jusqu'à la galerie, bout, chauffez la solution de bain jusqu'à la température fonctionnante.

2) devez changer la solution de bain complètement après le certain montant de dégraissage de tranche de silicium.

3) réduisent l'heure exposée en air d'éviter l'oxydation.

4) degré fonctionnant de la température 50-65, temps de disposition : 2-5minutes.

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