Double groupe de silicium de gaufrette de solution industrielle de nettoyage dans le concentré

Double groupe de silicium de gaufrette de solution industrielle de nettoyage dans le concentré

Le plus effectivement les gaufrettes de silicium propres, des fabricants des silicones recommandent la liste suivante d'étapes de nettoyage :

Étape une : Dissolvant propre

Dissolvants d'utilisation d'entreprises industrielles de semi-conducteur pour enlever avec succès des huiles et les résidus organiques de la surface des gaufrettes de silicium. Tandis que les dissolvants enlèvent ces contaminants, les dissolvants eux-mêmes laissent réellement le résidu sur la surface des gaufrettes aussi bien. Pour cette raison, une méthode de deux-dissolvant est appliquée pour s'assurer que la gaufrette est retournée à un contaminant énoncent librement. La méthode de nettoyage dissolvant est décrite ci-dessous :

Préparez deux bains, un conteneur en verre avec de l'acétone et des autres avec du méthanol.

Placez le conteneur d'acétone sur un plat chaud pour chauffer l'acétone à une température de pas davantage que 55°C.

Une fois que chaud, imbibez la gaufrette de silicium dans le bain d'acétone pendant 10 minutes.

Après que le bain d'acétone soit complet, enlevez la gaufrette de silicium et placez-la dans le conteneur de méthanol pendant 5 minutes.

Une fois que le temps est en hausse, enlevez la gaufrette du méthanol et du rinçage en DI water.

Séchez la gaufrette de silicium avec de l'azote.

Étape deux : RCA-1 nettoient

Ceux dans l'industrie de semi-conducteur emploient alors RCA propre pour enlever le résidu organique. RCA propre oxyde le silicium et fournit une couche protectrice mince d'oxyde sur la surface de la gaufrette. La méthode du de nettoyage RCA-1 est décrite ci-dessous :

Commencez la préparation d'un bain de RCA en combinant 5 parts DI water et 1 part d'hydroxyde d'ammonium (27%).

Placez le conteneur de RCA sur un plat chaud pour chauffer la solution à une température approximativement de 70°C.

Une fois que cette température a été atteinte, enlevez le conteneur du plat chaud et ajoutez 1 part de peroxyde d'hydrogène (30%). La solution bouillonnera après une minute ou deux.

Une fois que la solution commence à bouillonner, imbibez la gaufrette de silicium pendant approximativement 15 minutes.

Quand le temps est en hausse, enlevez la gaufrette du bain de RCA et placez-la dans un conteneur avec du DI water, changeant les temps multiples de l'eau de rincer complètement la solution.

Après ce processus, enlevez la gaufrette du conteneur sous l'écoulement de l'eau pour n'assurer à cela aucun résidu des bâtons de surface de l'eau à la gaufrette.

Étape trois : Immersion de l'acide fluorhydrique (à haute fréquence)

Les entreprises industrielles de semi-conducteur mettent en application alors l'étape finale, une immersion d'à haute fréquence, pour éliminer le silice de la surface de gaufrette de silicium. Il est important de noter que l'à haute fréquence est un produit chimique dangereux, ainsi les fabricants des silicones recommandent cette vitesse protectrice, telle que les gants lourds et l'usage d'oeil, soit porté à tout moment pendant cette étape. Le procédé d'immersion d'à haute fréquence est décrit ci-dessous :

Créez un conteneur d'immersion d'à haute fréquence en combinant 480 ml d'eau avec l'à haute fréquence de 20 ml. Utilisez toujours un becher de polypropylène par opposition à un becher en verre comme l'à haute fréquence est connu pour réagir dangereusement en entrant en contact avec n'importe quel matériel en verre.

Après création de la solution, imbibez la gaufrette de silicium pendant 2 minutes.

Une fois que le temps est en hausse, enlevez la gaufrette et le rinçage sous courir DI water.

Réalisez un essai de mouillabilité en versant DI water sur la surface de gaufrette. Si l'eau se transforme en petites perles et tombe, vous saurez que la surface est hydrophobe et exempte d'oxydes.

Séchez la gaufrette de silicium avec de l'azote.

L'exécution des étapes ci-dessus recommandées par des fabricants des silicones aidera ces entreprises dans l'industrie de semi-conducteur pour surmonter les défis de la contamination aux gaufrettes de silicium.

Paramètre technique de solution de nettoyage de gaufrette de silicium

Notre usine

L'usine couvre une aire de 26653 mètres carrés, la construction entrepôt d'un atelier d'atelier de classe, de classe de C, de C de classe, un entrepôt et d'autres équipements auxiliaires. Impliquer plus de 100 genres d'espèces chimiques. Capacité de production de 11000 tonnes/année.

D'abord, le profil de production de société

1. atelier classe de la c
C, 2#, 1# l'atelier avec 3#, les lignes de production 7# quatre, utilisant l'équipement de production fermé, y compris 1#, 2#, production ligne par ligne de l'automation 3#, et a placé la ligne deux remplissante liquide complètement automatique, remplissant caractéristiques à partir de la boîte 1L~25L. Les ingrédients sont effectués dans une zone joint distincte. Selon les conditions de la variété de produit, la salle de contrôle central de la chaîne de production classe de la c est équipée de toutes sortes d'instruments et capteurs pour former une pluralité de systèmes de contrôle.

2. Classe un atelier
Classe un atelier avec le mélangeur de trois axes et les ensembles ultra-rapides de la machine trois de dispersion de deux, professionnels pour fournir toutes sortes de production de peinture et de revêtement.

3. Entrepôt de C
L'aire de construction d'entrepôt de C de plus de 3300 mètres carrés et a une zone de feu, peut être employée pour la classification des matières premières et des produits finis chimiques.

4. Un entrepôt
L'aire de construction de deux entrepôts de plus de 1400 mètres carrés et a une zone de feu, peut être employée pour a, catégories de B des matières premières chimiques et stockage classifié par produits finis.

5. D'autres équipements
L'usine a des équipements d'un traitement des eaux usées de professionnel, capacité de traitement de 20T/d, après le traitement des eaux usées car l'eau reprise pour la production. L'usine est équipée de quatre ensembles d'équipement de traitement de gaz résiduel, tous les équipements de traitement de gaz d'échappement après des normes de décharge.